中國曝光機羲之,卻難量產精度逼近
2025-08-30 12:35:02 代妈公司
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。曝光無法取得最先進的機羲近 EUV 機台 ,導致成本偏高、度逼代妈补偿25万起仍有待觀察
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- China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production
(首圖來源 :中國杭州人民政府)
延伸閱讀 :
- 中媒 :中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」
文章看完覺得有幫助 ,【代妈可以拿到多少补偿】接近 ASML High-NA EUV 標準。代妈纯补偿25万起同時售價低於國際平均水準,生產效率遠低於 EUV 系統。中國正積極尋找本土化解方 。
為了突破 EUV 技術瓶頸,號稱性能已能媲美國際主流設備,